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11月 25

Helio P35處理器曝光:10nm工藝

編輯:匿名 來源:IT之家
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有微博網(wǎng)友放出了明年一些主流手機(jī)處理器的消息,該網(wǎng)友稱明年聯(lián)發(fā)科將直接跳過Helio P25/30而推出P35處理器,并且直接使用10nm工藝。

從網(wǎng)友曝光的表格來看,聯(lián)發(fā)科P35將采用10nm工藝,十核心架構(gòu),最高主頻2.2GHz,支持雙通道LPDDR4x內(nèi)存、UFS2.1,集成G71 MP3 GPU。

臺(tái)積電此前已經(jīng)表示即將量產(chǎn)10nm芯片,據(jù)悉最先用上該工藝制程的有望是聯(lián)發(fā)科的Helio X30芯片,這在該表格中也有所體現(xiàn),從表格來看Helio X30最高主頻達(dá)到了2.8GHz,最高支持4K顯示屏。

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